退火炉 是在半导体器件制造中运用的一种工艺，其包含加热多个半导体晶片以影响其电功能。热处理是针对差异的功效而设计的。不妨加热晶片以激活混杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉淀的薄膜，改变生长的薄膜的形态，修复注入的损伤，移动混杂剂或将混杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。那么退火炉的热源分为哪几个类型呢?下面是中门子小编总结出了以下几点：

        退火炉 不妨集成到其余炉子处理步调中，例如氧化，或许不妨自身处理。退火炉是由特意为加热半导体晶片而设计的设备完毕的。退火炉是节能型周期式功课炉，超节能结构，选用纤维结构，节电60%。

        退火炉按热源分类重点有电热炉、燃煤退火炉、燃油退火炉、天然气退火炉、煤气退火炉等，当中以自备煤气产生炉所产煤气退火炉使用最平凡。煤气退火窑减去了焚烧室，直接利用煤气烧嘴在加热室放射焚烧。为了降低能耗，煤气退火窑往往配有换热体系，将空气转换为助燃热风进行煤气的助燃。

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